光电

国际研究团队开发了一种“自刻蚀”技术，用于加工柔软且不稳定的离子晶格半导体，特别是二维钙钛矿薄层单晶，而不会损坏其结构，从而克服了光电材料领域的一个关键挑战。该研究由中国科学技术大学、普渡大学和上海科技大学的研究人员领导，于周四发表在《自然》杂志上。